了解Redshift中的烘焙
Redshift是功能强大的GPU加速渲染器，旨在满足当代高端生产渲染的特定需求。换句话说，Redshift是为支持各种规模的创意个人和工作室而量身定制的。实际上，Redshift提供了一套强大的功能，并与行业标准的CG应用程序集成。在过去的几年中，越来越多的设计师正在使用Redshift进行渲染，并借助此渲染器大大加快了渲染时间。
今天的文章中，我们将探讨烘焙，这也是Renshift渲染器的强大功能之一。它允许使用特定的UV通道将AOV渲染到纹理贴图上。这在各种情况下都非常有用。其中之一就是“光映射”，用户将特定对象接收的漫射光照渲染到纹理上，然后在动画渲染过程中重新使用该纹理，而不必在每个帧上计算（可能较慢）漫反射光照。
烘焙既有优点也有缺点。首先，让我们看一下它的优势。烘焙可以帮助提高渲染性能。此外，出于质量或外观的原因，可以通过外部图像编辑程序或脚本来调整纹理。
但是，此过程涉及一些设置工作。另外，烘焙结果的质量取决于纹理的分辨率。极高分辨率的纹理可能需要很长时间才能计算出来。最后但并非最不重要的一点是，当用于光照贴图时，由于动画几何形状而导致的照明更改和光照不会反映在烘焙纹理上。
下图显示了一个包含几个对象的简单光照贴图场景。茶壶和地板都使用 512×512 烘焙的 TotalDiffuseLightingRaw AOV 图像。
用于生成烘焙光照贴图纹理的原始场景。在 11 秒内渲染。
修改着色器图形以使用光照贴图纹理。在 2 秒内渲染。
地板的烘焙 512x512 图像。请注意，图像显得更暗，因为它显示在线性空间中。
如何在Redshift中使用烘焙
生成烘焙图像包括几个主要步骤：
创建一个合适的未包裹 UV 通道，供烘焙使用
创建和配置一个或多个烘焙集
设置 AOV
执行烘焙
Redshift需要合适的UV通道来执行烘焙。在大多数3d应用程序中，都会有一个“自动 UV”或“展开 UV”选项，它会为烘焙生成合适的 UV 布局。烘焙 UV 通道的两个重要要求是 UV 应适合0->1 UV 范围，并且对象的不同部分不应在 UV 空间重叠。大多数 3d 应用程序生成的展开的 UV 已经满足这些标准。
创建烘焙集
一旦有了 UV 通道，就应该创建和配置一个或多个烘焙集。烘焙集包含可以应用于单个对象或一组对象的烘焙设置。组中的每个对象都会获得自己的烘焙图像。
最后，必须配置 Redshift 的 AOV 设置以指定我们要烘焙的 AOV。例如，如果我们想烘焙漫反射光照贴图，我们应该使用“TotalDiffuseLightingRaw”AOV。
烘焙的AOV设置
Redshift 的烘焙功能依赖于 AOV 系统来渲染烘焙图像。为烘焙设置 AOV与为渲染（基于相机的）渲染设置它们相同。
Redshift 建议用户设置单独的渲染通道/层（取决于其 3d 应用程序的功能）来配置用于烘焙的 AOV，因为它们可能与主渲染所需的 AOV 不同。
在配置AOV进行烘焙时，用户必须对烘焙的图像文件名进行选择。由于所有烘焙集都依赖于全局 AOV 选项（包括文件名），当场景包含多个对象时，这如何工作？即我们如何防止场景中所有对象的烘焙写入同一个图像文件？这取决于 3d 应用程序。
局限性
虽然是一个很棒的功能，但烘焙系统目前不支持以下渲染功能。首先是曲面细分和置换。如果烘焙几何体被镶嵌或置换，视觉伪影将出现在烘焙图像上。第二是基于点的技术，如基于点的次表面散射、辐照度缓存和辐照度点云不能与烘焙渲染一起使用。光子（以及随后的焦散）确实起作用。和投影映射目前不支持。最后，目前不支持高分辨率到低分辨率的纹理烘焙。
使用烘焙进行光照贴图
以下是生成与上面所示相似的烘焙光照贴图的一些快速步骤：
创建一个如上图所示的场景，有两个对象
为两个对象创建展开的 UV 通道。确保 UV 通道的命名一致。
选择两个对象并在两个对象上为它们分配烘焙集。确保烘焙设置使用正确的 UV 通道
向场景中添加“TotalDiffuseLightingRaw”AOV
根据您的 3d 应用程序，执行上述烘焙文件名步骤
执行烘焙
然后编辑着色器图如下：
通过使漫反射颜色变黑或漫反射权重为零来移除任何漫射照明
将烘焙图像连接到着色器的白炽（或发射）颜色端口，并将白炽（或发射）权重设置为与原始漫反射权重相同的值
确保，如果图像被保存为 EXR，纹理节点中的伽马设置为线性
上述步骤基本上用烘焙漫射照明替换了“真实”漫射照明
如果漫反射端口有纹理，在将其连接到白炽端口（或发射）之前，使用乘法着色器节点将纹理与光照贴图相乘。
总结：
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