三星这项技术再次领先全球！三星进军未来工艺制程技术：目标3nm

近日，三星在工艺论坛SFF 2018 USA上，向外界展示了其最新的7nm工艺技术，同时还向外界透露，三星还准备连续进军5nm、4nm、3nm工艺，三星表示目前未来的终极目标将会是3nm，而现在全新的7 nm的EUV极紫外光刻技术基本处于研究完毕的状态。

三星在论坛大会上表示：三星首先将会在7LPP工艺的基础上继续创新改进，然后进一步推出5nm工艺，而4nm工艺也依旧将会结合此前5nm成熟的LPE工艺技术，采用当下成熟最高的FinFET立体晶体管技术；但三星最后表示3nm工艺将会是全新设计的晶体管底层结构，全新设计的晶体管架构能够克服目前的物理和性能极限，从而实现终极的3nm工艺制程技术，届时将会一步缩小芯片核心面积。

从三星目前的研发成都来看看，目前只有7nm可以实现量产，其余的5nm、4nm、3nm都还处于研发阶段，但三星率先的做出了规划，虽然尚未得知何年何月能够定型，但既然三星做出了规划，以三星的实力，肯定可以实现未来的3nm工艺制程技术，三星这次再次引领全球，你觉得未来的极限到底在哪里？欢迎在评论区发表意见和看法一起探讨。