半导体设备用分子泵简介（下）
上接半导体设备用分子泵简介（中）。
复合式分子泵
复合式分子泵是涡轮分子泵和牵引分子泵的串联组合，集两种泵的优点于一体，在很宽的压强范围内（106 Pa ～ 1 Pa）具有较大的抽速和较高的压缩比，大大提高了出口压强。
复合式分子泵结构图见图6和图7；外形图见图8。
图6 – 复合式分子泵涡轮叶片与盘式牵引泵的组合
图7 – 复合式分子泵涡轮叶片与筒式牵引泵的组合
图8 – 复合式分子泵外形图
三种泵转子图如图9所示。
图9 – 分子泵转子图
06
真空泵应用注意事项[5]
随着半导体技术的飞速发展，半导体器件也在一代一代地创新和发展。如今，半导体设备的制造和使用涉及多种化学元素等高新技术，具有很强的技术综合性。而且，半导体设备技术的发展逐渐将工艺技术模块化融入设备，使其高度自动化、高度智能化，逐步改变了设备与工艺自然分离的局面，始终走在半导体制造业发展的前沿，发挥特别重要的作用。随着半导体器件的进一步发展，它们的应用越来越广泛。在其他电子器件制造领域，半导体器件或由半导体器件演化而来的器件也得到了不同程度的应用，成为半导体器件应用的一个新领域。尤其是在微纳电子器件、微纳光电系统等尺寸极小、精度非常高的产品中，电子元器件的逐步应用开发具有重要意义。
半导体工艺真空主要用在蒸发，溅射，PECVD，真空干法刻蚀， 真空吸附，测试设备，真空清扫等等键合工序，半导体生产制造过程中容易产生易燃易爆以及有毒的物质气体，会对生产及人员安全造成威胁，因此，半导体真空泵应用时需要注意的几个安全事项：
1） 定期清洗真空泵及其他附件（过滤器、管道），避免超压
半导体真空泵应用时，抽取介质过程中经过反应室与真空泵，其成分可能极为复杂，如SiH4与O2在泵口形成SiO2，TiCl4水解会形成HCl；假设是油封式机械泵，这些气体物质还可能与泵油发生化反。这些变化假设形成颗粒、可凝物或者腐蚀性介质，就可能堵塞真空泵或管路系统，影响真空泵性能，造成压力上升或超压，一点中提到的危险性也更大。所以需要及时的清洗，并在必要的时候设置过滤设备。
2） 有效稀释有害气体的浓度
半导体易产生前面所说的易燃易爆、有毒的有害气体。所以半导体真空泵应用中在抽取这些介质时就必须防止它们在真空泵内或者排气过程中发生一些不可控的反应。比如SiH4、PH3、AsH3、B2H6等物质，在与空气或氧接触的时候，会引起燃烧甚至爆炸；氢气在空气中的混合比例达到一定程度与温度时也会发生燃烧。这些都取决于该物质的量以及与环境的压力、温度的关系。因此半导体真空泵在抽取这些介质时，需要用氮气之类的惰性气体，在压缩前即将这些气体稀释到当时条件下的安全范围。
3） 注意氧气的浓度
空气中的氧如果浓度过高也会发生燃烧及爆炸风险。所以一些情况下需注意氧的浓度，采用惰性气体来稀释，防止浓度过高。假设是油封机械泵，可能还需要采用一些惰性的与氧相容的真空泵油，并及时更换油滤和油品。
4） 防止温度过高
比较容易理解这点，半导体在真空泵的应用中，有害气体比较多，而无论是干式真空泵还是油封机械泵，泵腔内温度过高，高温下易燃易爆及有毒气体就会容易发生危险。
当我们在使用真空泵的时候，需要注意到在导体中的使用安全注意事项吗，以及后期再使用时做好操作使用。
07
浙江启尔机电技术有限公司简介
建议朋友们关注一下这家公司（目前关于他们的公开信息及产品不多），也许不久的将来会给大家一个惊喜：
浙江启尔机电技术有限公司成立于2013年，2017年8月签约入驻青山湖科技城，公司主要研发、生产和销售高端半导体装备超洁净流控系统及其关键零部件。启尔机电前身是浙江大学流体动力与机电系统国家重点实验室启尔团队，先后承担国家863计划和国家科技重大专项等科研项目30余项，总投资约10亿元，已获授权发明专利100余项。公司员工130余人，其中：高级职称7人，博士10人，在职博士6人。启尔团队深耕于高端半导体装备细分领域的尖端技术，经过十六年坚持不懈的基础研究和技术攻关，已成长为该技术领域全球前三，国内唯一高科技公司，具有不可替代的行业地位。
发展历程
2013年5月，浙江启尔机电技术有限公司成立。
2017年8月，签约入驻杭州青山湖科技城。
2017年9月，获批承担国家科技重大专项
技术服务
启尔机电拥有专业的研发队伍，多年承担国家863计划和国家02科技重大专项等科研项目，具备独立开展零部件设计、系统集成、软件开发及分析测试等项目的研发能力，在流体纯化、流体精密测控领域具有丰富经验。公司拥有千级洁净室，超纯水和超纯气制备及调控系统，精密运动平台，以及一系列测量分析仪器。可根据用户需求提供系统定制、系统设计和样品测试服务。
启尔机电可承接的技术研发范围包括：
符合SEMI标准的超纯水、干空气、湿空气制备和输配系统定制。
流体精密温度控制系统开发，对超纯水可实现±0.01℃的控温目标。
小尺寸流体输配装置设计、制造，典型流道尺寸达0.1~1mm级别。
静态或动态工况下固体样品表面亲疏水特性测试服务。
参考文献
[5] Vacuum Pump In Semiconductor Process, EVP
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