碳化硅基板陶瓷金属化的应用与研究

现代新技术的发展离不开材料,并且对材料提出愈来愈高的要求。随着材料科学和工艺技术的发展,现代陶瓷材料已经从传统的硅酸盐材料,发展到涉及力、热、电、声、光诸方面以及它们的组合,将陶瓷材料表面金属化,使它具有陶瓷的特性又具有金属性质的一种复合材料,对它的应用与研究也越来越引起人们重视。

通过化学镀、真空蒸镀、离子镀和阴极溅射等技术,可以使陶瓷片表面沉积上Cu、Ag、Au等具有良好导电性和可焊性的金属镀层,这种复合材料常用来生产集成电路、电容等各种电子元器件。作为集成电路的方面,是将微型电路印刷在上面,用陶瓷做成的基片具有导热率高、抗干扰性能好等优点。随着电子工业、计算机的飞速发展,集成电路变得越来越复杂,包括的装置和功能也是越来越多,这样就要求电路的集成化程度越来越高。此时使用碳化硅陶瓷基板金属化的基片能够大幅提高电路集成化,实现电子设备小型化。

电容器作为一种重要的电气件,它在电子工业和电力工业都有着很重要的用途。其中陶瓷电容器因具有优异的性能而占有很重要的地位,目前它的产销量是很大的,而且每年还在递增。

电子仪器在工作时。一方面向外辐射电磁波,对其他仪器产生干扰,另一面还要遭受外来电磁波的干扰。当今电子产品的结构日益复杂,品种与数量日益增多,灵敏度日益提高,所以电磁干扰的影响也日益严重,已经引起了人们的重视。

在电磁屏蔽领域,表面金属化陶瓷同样发挥着重要的作用,在陶瓷片表面镀上一层 Co-P和Co-Ni-P合金,沉积层中含磷量为0.2%-9%,其矫顽磁力在200-1000奥斯特,常作为一种磁性镀层来应用,由于其抗干扰能力强,作为最高等级的屏蔽材料,可用于高功率和非常灵敏的仪器,主要用在军工产品上面。

碳化硅陶瓷金属化在工艺上有化学镀、真空镀膜法、物理蒸镀法、化学气相沉淀法及喷镀法,再就是最新的离子化镀层法,像激光活化金属化技术,其优点明显:

1、 结合力强,激光技术使金属层的结合强度可以达到45Mpa;

2、 不管被镀物体形状如何复杂都能得到均匀的一层镀层;

3、 成本大幅降低,效率提高;

4、 绿色环保无污染。

碳化硅陶瓷基板作为一种新型材料具有许多独特的优点,它的应用和研究只是刚刚起步,还有非常大的发展空间,在不远的将来,碳化硅基板必将大放光彩。

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