MATERIALS LETTERS：一种制备图案化石墨烯的方法

石墨烯薄膜作为一种优良的透明导电电极，具有优异的导电性，光学透射率和机械稳定性，非常适用于光电器件。石墨烯的图案化工艺对于其在集成电路，场效应晶体管阵列和印刷电子器件中的特定应用是必不可少的。然而，对于成功通过简单有效的方法制备图案化的石墨烯电极的相关研究较少。

近日，吉林大学Li, Aiwu和Yang, Han等人开发了一种能通过利用掩膜版沉积的图案化铜膜制备了图案化的石墨烯电极的简单方法，这种方法制备的图案化石墨烯边界线明确。相关研究结果以“A simple method for the preparation of patterned graphene electrodes and its application in organic light-emitting diodes array”为题发表在《MATERIALS LETTERS》上。

通过CVD法在铜箔上沉积石墨烯，利用PMMA将石墨烯转移至玻璃基板上。利用掩模板，在真空热蒸发系统中将具有特定图形的300nm厚的铜膜沉积在石墨烯表面上，然后，通过Ar等离子体（8分钟，高功率）蚀刻掉没有铜膜覆盖的石墨烯，得到玻璃基底上图案化的石墨烯。

得到的高质量图案化石墨烯电极具有556  Ω/sq的低平均表面电阻，同时其在550nm下的透射率超过96％。具有图案化石墨烯电极的4×2有机发光二极管阵列进一步证明了这种简单图案化技术的实际应用。相应的器件在15V时的最大亮度为44k cd/m2，在6V时的电流效率为24cd/A。这种图案化的石墨烯电极在柔性印刷电子器件和显示器的应用中也具有巨大潜力。

研究亮点

·开发了一种简单有效的石墨烯图案化方法。

·图案化石墨烯具有良好的图形精度和光学/电学特性。

·制造出具有图案化石墨烯电极的OLED阵列。

DOI: 10.1016/j.matlet.2019.05.056

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