英特尔不仅10nm延期，EUV光刻工艺也要落后三星、台积电两年

随着Globalfoundries公司无限期退出7nm及以下工艺研发，全球有能力研发先进工艺的只剩下英特尔、台积电及三星，其中英特尔公司是过去几十年中半导体工艺最强大的公司，但是现在他们的10nm工艺都延期到明年底，台积电、三星的7nm已经或者即将量产。英特尔在制程工艺上的延期不只是影响10nm及未来的7nm工艺，更重要的是英特尔使用EUV光刻工艺也面临不确定性，分析称2021年底英特尔都不太可能用上EUV工艺，而台积电、三星明年的7nm改进版工艺就会用上EUV工艺。

常看超能网的读者应该知道EUV光刻机对7nm及以下的工艺节点非常重要，目前全球唯一能生产EUV光刻机的就只有荷兰ASML公司了，而EUV光刻机研发已经有二十多年历史了，现在的EUV光刻机虽然已经量产出货，但在产能还达不到要求，所以台积电首先推出了不使用EUV光刻工艺的第一代7nm，预计明年的7nm+增强版工艺上才会使用EUV光刻工艺。

在EUV光刻机上，三星是最激进的一家，直接在7nm工艺上首发EUV工艺，但这也导致三星的7nm工艺难度高，进展比台积电更慢，台积电今年中就开始量产7nm芯片，三星的7nm EUV工艺预计要到明年初才能正式量产，而且客户数量远低于台积电的50多家。

GF公司原本也在第二代7nm工艺上使用EUV工艺，不过他们现在退出了7nm工艺的研发、生产，EUV光刻机也用不上了，不知道会如何处理他们的EUV光刻机及之前的ASML光刻机订单。

在EUV工艺上，英特尔还是最早投入研发资源的半导体公司之一，但是现在英特尔的不确定性也是最大的，前几年英特尔还表态他们并不依赖EUV工艺，即便没有EUV光刻机也懂得如何制造7nm工艺的芯片，这番豪言已经是2014年的事了。

现在英特尔最大的麻烦不是EUV光刻工艺，他们首先要解决的是10nm工艺的量产，将良率提高到可以接受的程度，在2019年底正式推出基于10nm工艺的处理器，而在2020年才有可能大规模生产出移动、桌面、服务器版的10nm芯片。

英特尔的7nm工艺尚在研发中，英特尔透露的消息非常少，此前只是表态称7nm工艺上吸取了10nm工艺的教训，不搞太浮夸的指标以便降低量产难度。至于EUV工艺，英特尔官方没有正式表态呢，EETiems上周在报道中援引伯恩斯坦分析师Mark Li的消息称英特尔还在等待EUV技术更加成熟，在2021年底之前不会将EUV工艺纳入到其工艺技术中去。

这个分析意味着英特尔至少要在三年后才能用上EUV工艺，即便2021年末真的推出了EUV工艺，那也意味着英特尔在这个技术进度上落后台积电、三星公司两年时间，尽管英特尔的决定可能更成熟一些，在新工艺技术问题没解决之前上EUV工艺可能会引入额外的风险。