三羟甲基氨基甲烷还原合成席夫碱

三羟甲基氨基甲烷是常用的缓冲中间体，CAS77-86-1，不仅仅是在医药和日常生活中的护肤品中有，在导电材料席夫碱中也是有它的身影。

三羟甲基氨基甲烷作用的席夫碱具有哪些特性呢，螯合性、耐热性、液晶性和本征导电性等。在由碘掺杂后共轭聚席夫碱导电性可增约8个数量级，从而使其到半导体的水平，掺杂材料的席夫碱发现具有良好的稳定性、电化活性及光电导性。

常规状态下的聚席夫碱分子链比较刚硬，分子间作用力也较强，得到的聚合物是不溶不熔的，而使用了三羟甲基氨基甲烷等溶剂合成的席夫碱，则直接让席夫碱摆脱了聚合物加工及表征带来极大困难的窘境，导电率增加。

如何提高席夫碱的产率，这则需要利用三羟甲基氨基甲烷和3,5-二溴水杨醛进行反应合成，并且以无水乙醇作为溶剂，在常温条件下还原希夫碱。其中3,5-二溴水杨醛和三羟甲基氨基甲烷摩尔比例为1∶1,反应时间为30min,席，硼氢化钠与3,5-二溴水杨醛缩三羟甲基氨基甲烷席夫碱的摩尔比为1.5∶1,还原席夫碱的产率达81.4%。